鋁合金硬質氧化和普通陽極氧化的區別，單說三個(ge) 方麵：
1、溫度不同：普通18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現粉末或裂紋;硬質氧化一般在5℃以下，相對來說溫度越低硬質越高。

　　2、濃度差異：普通氧化一般20%左右，硬質一般在15%或更低。

　　3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2;而硬質氧化：1.5-3A/dm2

　　以上是操作條件方麵的差異。

正麵說下膜層性能方麵的差異：

　　1、膜層厚度：鋁合金硬質氧化一般膜層厚度>15μm，過低達不到硬度的要求，而普通氧化厚度則相對較薄。

　　2、表麵狀態：普通氧化表麵較平整，而硬質氧化表麵較粗糙。

　　3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高，而硬質氧化孔隙率低。

　　4、適用場合不同：普通氧化適用於(yu) 裝飾為(wei) 主，而硬質氧化以功能為(wei) 主，一般用於(yu) 耐磨、耐電的場合。

　　這些是我們(men) 平常用的較多的性能方麵的比較，還有其他許多方麵的差異，鑒於(yu) 水平有限無法再深入。

　　以上，僅(jin) 供參考，希望各位前輩、同行多發表自己的觀點。

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