以鋁或鋁合金製品為(wei) 陽極，置於(yu) 電解質溶液中進行通電處理， 利用電解作用使其表麵形成氧化鋁薄膜的過程, 稱為(wei) 鋁硬質陽極氧化處理。經過陽極氧化處理，鋁表麵能生成幾個(ge) 微米———幾百個(ge) 微米的氧化膜。比起鋁合金的天然氧化膜，其耐蝕性、耐磨性和裝飾性都有明顯的改善和提高。

 
　　鋁硬質陽極氧化的原理實質上就是水電解的原理。當電流通過時, 將發生以下的反應：

 
　　在陰極上, 按下列反應放出 H2：2H + ＋ 2e → H2

 
　　在陽極上, 4OH - 4e → 2H2O ＋ O2, 析出的氧不僅(jin) 是分子態的氧 (O2), 還包括原子氧(O), 以及離子氧(O-2), 通常在反應中以分子氧表示。

 
　　作為(wei) 陽極的鋁被其上析出的氧所氧化, 形成無水的Al2O3膜： 2AI + 3[O] = AI2O3 + 1675.7KJ 應指出, 生成的氧並不是全部與(yu) 鋁作用, 一部分以氣態的形式析出。

 
　　陽極氧化的種類陽極氧化早就在工業(ye) 上得到廣泛應用。冠以不同名稱的方法繁多, 歸納起來有以下幾種分類方 法：

 
　　按電流型式分有：直流電陽極氧化、交流電陽極氧化、以及可縮短達到要求厚度的生產(chan) 時間，膜層既厚又均勻致密, 且抗蝕性顯著提高的脈衝(chong) 電流陽極氧化。

 
　　按膜層性質分有：普通膜、硬質膜(厚膜)、瓷質膜、光亮修飾層、半導體(ti) 作用的阻擋層等陽極氧化。

 
　  按電解液分有：硫酸、草酸、鉻酸、混合酸和以有機磺酸溶液的自然著色陽極氧化。 　

 
　　直流電硫酸陽極氧化法的應用最為(wei) 普遍, 這是因為(wei) 它具有適用於(yu) 鋁及大部分鋁合金的陽極氧化處理；膜層較厚、硬而耐磨、封孔後可獲得更好的抗蝕性；膜層無色透明、吸附能力強極易著色；處理電壓較低,耗電少；處理過程不必改變電壓周期, 有利於(yu) 連續生產(chan) 和實踐操作自動化；硫酸對人身的危害較鉻酸小, 貨源廣, 價(jia) 格低等優(you) 點。

 
　　近十年來, 我國的建築業(ye) 逐步使用鋁門窗及其它裝飾鋁材, 它們(men) 的表麵處理生產(chan) 線都是采用這種方法。

 
　　陽極氧化膜結構、性質與(yu) 應用

 
　　1) 陽極氧化膜的結構 陽極硬質氧化膜由兩(liang) 層組成, 外層稱為(wei) 多孔層，較厚、疏鬆多孔、電阻低。 多孔的外層是在具有介電性質的致密的內(nei) 層上成長起來的。內(nei) 層稱為(wei) 阻擋層(亦稱活性層)，較薄、致密、電阻高。 總體(ti) 而言，陽極氧化膜是六角柱體(ti) 的列陣，每一個(ge) 柱體(ti) 都要一個(ge) 充滿溶液的星型小孔，形似蜂窩狀結構，孔壁的厚度孔隙直徑的兩(liang) 倍。

 
　　(1) 阻擋層 阻擋層是由無水的AI2O3所組成, 薄而致密, 具有高的硬度和阻止電流通過的作用。(2) 多孔的外層 氧化膜多孔的外層主要是由非晶型的AI2O3及少量 的r-AI2O3.H2O還含有電解液的陰離子。

 
　　氧化膜的孔徑在100nm~200nm之間，氧化膜厚度10微米左右，孔隙率20%左右，孔距300~500nm之間。氧化膜的截麵圖表明氧化膜孔基本上是管狀結構，氧化膜發生溶膜反應基本上是在孔的底部發生的。而一般的硫酸直流陽極氧化膜的孔徑是20nm左右，如果是12微米的氧化膜，那是多深的細管狀結構啊！假設這是一個(ge) 直徑2m的井，那麽(me) 它的井深將有1200m深。

 
　　氧化膜的絕大部分優(you) 良特性,如耐磨、抗蝕、吸附、絕緣等性能都是由多孔外層的厚度及孔隙率所決(jue) 定的,然而這兩(liang) 者卻與(yu) 陽極氧化條件密切相關(guan) , 因此可通過改變陽極化條件來獲得滿足不同使用要求的膜層。膜厚是陽極氧化製品一個(ge) 很主要的性能指針, 其值的大小直接影響著膜層耐蝕、耐磨、絕緣及化學著色能力。在常規的陽極氧化過程中, 膜層隨著時間的增加而增厚。在逹到最大厚度之後, 則隨著處理時間的延長而逐漸變薄, 有些合金如AI-Mg、AI-Mg-Zn合金表現得特別明顯。因此, 氧化的時間一般控製在逹最大膜厚時間之內(nei) 。

 
　　2) 陽極氧化膜的性質與(yu) 應用 陽極氧化膜具有較高的硬度和耐磨性、極強的附著能力、較強的吸附能力、良好的抗蝕性和電絕緣性及高的熱絕緣性。由於(yu) 這些特異的性能, 使之在各方麵都獲得了廣泛的應用。

 
　　主要用途有：（1）提高零件的耐磨、耐蝕性、耐氣候腐蝕。（2）提高與(yu) 有機塗層的結合力。作塗裝底層。（3）作為(wei) 電容器介質膜。（4）氧化生成的透明膜，可以著色製成各種彩色膜。（5）作電鍍、搪瓷的底層。（6）正在開發的其它用途，太陽能吸收板、超高硬質膜、幹潤滑膜、觸媒膜、納米線、在多孔膜中沉積磁性合金作記憶元件。