各種因素對氧化膜硬度和生長速度的影響
鋁和鋁合金表麵上能否生成優(you) 質的硬質氧化膜層，主要取決(jue) 於(yu) 電解液的成份濃度，溫度，電流密度，及其原材料的成分。

電解液的濃度

采用硫酸電解液進行硬質陽極氧化時，一般在10%～30%濃度範圍內(nei) ，濃度低時，氧化膜硬度高，特別是純鋁比較明顯，但對銅含量較高的鋁合金（CY12）例外。因為(wei) 含銅量較高的鋁合金易生成CuAl2的化合物，這種化合物在氧化時溶解速度較快，極易燒毀鋁零件。所以一般不適合用低濃度的硫酸電解液，必須在高濃度（H2SO4在 300～400g/L）中進行氧化處理或采用交直流電疊加法處理。
溫度對膜層的影響

電解液溫度對氧化膜的耐磨性影響極大，一般來說，如果溫度下降，那麽(me) 鋁和鋁合金的陽極氧化膜耐磨性能就增高，這是由於(yu) 電解液對於(yu) 膜的溶解速度下降所造成的，為(wei) 了獲得較高硬度的氧化膜。我們(men) 要掌握溫度在±2℃範圍內(nei) 進行硬質陽極氧化處理為(wei) 好。